肇慶恒譽|高性價中頻磁控濺射鍍膜設備哪里有賣， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司自2012-07-23成立以來，專注于為需求群體提供好的中頻磁控濺射鍍膜設備。公司及時跟進潮流動態，立足新起點，開創新局面。擁有成熟的生產加工設備以及可靠的包裝生產流水線，新產品開發周期短、能力強，精度高，制造工藝成熟。歡迎廣大需求群體前來合作。

肇慶恒譽，

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

恒譽真空針對售出的中頻磁控濺射鍍膜設備提供產品售出后質保一年的售后服務，如果您在使用中頻磁控濺射鍍膜設備時發現產品出現任何非人為損壞的質量問題，都可在保修期內送到廣東肇慶等多家售后服務點進行相關售后處理，我們的產品擁有1個月的保修期。

恒譽真空本著可靠執著，精益求精的精神，踐行“質量是企業信譽的基石”的指導方針。從產品品質著手生產制造中頻磁控濺射鍍膜設備，以客戶的需求為生產的源動力，中頻磁控濺射鍍膜設備有著良好的用戶評價。堅持以“質量取勝”的生產原則，力求為想購買中頻磁控濺射鍍膜設備的客戶群眾提供滿意、放心的產品。

肇慶恒譽|高性價中頻磁控濺射鍍膜設備哪里有賣， 成熟的銷售網絡渠道，可靠的售后服務隊伍，依托特別的經驗和過人的技術，使恒譽真空的中頻磁控濺射鍍膜設備在眾多同類產品中脫穎而出，用戶遍布全國。公司一貫遵循 “誠信為本、質優價廉” 的經營理念，多年來發展良好，公司還將繼續往這條路走下去，我們有理由相信恒譽真空的明天會更加美好。愿與廣大客戶締結良好合作關系，歡迎前來參觀合作。

欲了解更多有關廣東鍍膜機，肇慶恒譽，五彩機，廣東鍍膜設備，多弧機詳情，請致電聯系我們了解