產品庫

真空鍍膜機，恒譽真空提供銷量好的精密光學鍍膜設備， 恒譽真空經過多年的經營發展，公司已經擁有一支頗具水準的經營團隊。生產的精密光學鍍膜設備主要用于鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，主要服務于廣東地區。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質經營”的營業理念，為廣大中小企業供應優異的產品，同時提高售后服務質量，提升客戶滿意程度。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司創立伊始，規模逐步發展壯大，憑著過硬的生產技術、豐富的管理經驗，好的客戶服務和良好的企業信譽，在機械和行業設備專用配件行業不斷進步。在短時間內完成了企業創建、完善、發展完善的過程，精密光學鍍膜設備市場廣闊，產品已經銷售到全國;廣東、肇慶。

在您購買恒譽真空的精密光學鍍膜設備后，我司會以陸運;公路運輸的物流方式為您運送貨物，基于用戶需求的服務，在全國;廣東、肇慶受到客戶的一致好評。我司堅持及時進行質量跟蹤，迅速處理質量異議，打造出的產品物有所值、經久耐用，是您可放心購買的機械和行業設備專用配件的產品。

真空鍍膜機，

磁控濺射

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。

隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

磁控濺射種類

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。

真空鍍膜機，恒譽真空提供銷量好的精密光學鍍膜設備， 您的滿意是我們的追求，誠信經營是打開市場的鑰匙。近年肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司在機械和行業設備專用配件行業風生水起，為中小企業解決購買精密光學鍍膜設備遇到的問題，獲得良好的評價，是一家值得您信賴的有限責任公司。恒譽真空在業內已占有一席之地，公司竭誠歡迎廣大的客戶蒞臨公司參觀、指導。地址：肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側

歡迎電話來訪，我們有人員為您介紹真空鍍膜機，，傾銷精密光學鍍膜設備，蒸發卷繞機，鍍鋁機的相關信息