產品庫

鍍鈦機|恒譽真空質量良好的精密光學鍍膜設備出售， 恒譽真空經過多年的經營發展，公司已經擁有一支頗具水準的經營團隊。生產的精密光學鍍膜設備主要用于鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，主要服務于廣東地區。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質經營”的營業理念，為廣大中小企業供應優異的產品，同時提高售后服務質量，提升客戶滿意程度。

機械和行業設備專用配件是恒譽真空的主要經營方向，在全國;廣東、肇慶范圍采用批發;零售;的方式為海量的中小企業提供優等品的產品。我司以人為本，尊重客戶需求。若選擇我司提供的精密光學鍍膜設備，我們將以陸運;公路運輸的方式發貨，請您細心留意產品的物流詳情。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23，是一家可靠從事精密光學鍍膜設備經營銷售的有限責任公司。集研發、生產、銷售、服務于一體。產品應用領域廣泛，在機械和行業設備專用配件行業領域占有的市場，獲得了眾多用戶的好評。嚴格質量過程控制，合同交貨周期，至今已創下良好的信譽及口碑，以技術過硬、服務周到而享譽全國;廣東、肇慶。

鍍鈦機，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

鍍鈦機|恒譽真空質量良好的精密光學鍍膜設備出售， 我司堅持科學發展，加強自主創新，提高核心競爭力。精密光學鍍膜設備制作材料上乘，價格公道，公司服務態度較好，合作信譽優良。肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司實施自主創新戰略，建設創新型企業。歡迎廣大客戶光臨惠顧精誠合作，共展宏圖。公司地址：肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側

請來電咨詢了解更多與鍍鈦機，光學鍍膜機廠家，磁控濺射卷繞機，鍍彩機，光學鍍膜機相關的詳情信息