產(chǎn)品庫(kù)

真空鍍膜機(jī)，肇慶哪里有中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備， 肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司自2012-07-23成立以來(lái)，專注于為需求群體提供好的中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備。公司及時(shí)跟進(jìn)潮流動(dòng)態(tài)，立足新起點(diǎn)，開(kāi)創(chuàng)新局面。擁有成熟的生產(chǎn)加工設(shè)備以及可靠的包裝生產(chǎn)流水線，新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)周期短、能力強(qiáng)，精度高，制造工藝成熟。歡迎廣大需求群體前來(lái)合作。

恒譽(yù)真空建立高起點(diǎn)、高目標(biāo)、高質(zhì)量、率、有效益的“五高”標(biāo)準(zhǔn)，鍛造出質(zhì)量良好的產(chǎn)品，獲得廣闊的銷售市場(chǎng)。供應(yīng)的中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用于鍍膜，在廣東、肇慶區(qū)域范圍內(nèi)受到廣大需求群體的青睞。公司憑借良好的信譽(yù)，雄厚的實(shí)力，好的產(chǎn)品，低廉的價(jià)格服務(wù)于廣大用戶。

真空鍍膜機(jī)，

平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對(duì)較高，但由于電子沿磁力線運(yùn)動(dòng)主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴(kuò)展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。

旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問(wèn)題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實(shí)際操作困難。

主要問(wèn)題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽(yáng)極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國(guó)萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個(gè)問(wèn)題。其原理是一對(duì)靶源互相為陰陽(yáng)極，從而消除陽(yáng)極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無(wú)冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源。

有品質(zhì)才有市場(chǎng)，公司的產(chǎn)品以質(zhì)量作為保證，廣受需求群體的歡迎，供應(yīng)的中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備若有需要也可以進(jìn)行定制。我公司的中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備已通過(guò)批發(fā);零售;的銷售方式銷往到了全國(guó);廣東、肇慶各地，用戶對(duì)產(chǎn)品接受度高，為廣大需求群體所歡迎。

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