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鍍膜設備價格_恒譽真空提供實惠的精密光學鍍膜設備， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司擁有一支經驗豐富、實力過硬的生產銷售隊伍，專注于精密光學鍍膜設備的生產和研發，自成立以來，始終把客戶的利益放在靠前，不斷引進吸收國內外同行的設計理念和制造技術，在機械和行業設備專用配件行業中成績顯著，并積極為客戶開發低成本，高生產效率，滿足客戶需要的新產品。公司立志為廣大中小企業提供優異的精密光學鍍膜設備產品，始終堅持誠信和互惠原則，堅持用真誠的服務去打動客戶。

正視挑戰，增強信心，創造輝煌。在成功取代傳統制造工業的同時，滿足了現代生產效率，高穩定性和可靠性的精微加工的要求。恒譽真空儼然成為一家成熟的精密光學鍍膜設備生產企業，供應的精密光學鍍膜設備受到廣大中小企業的一致好評，產品在鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜擁有良好的表現。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

優異的服務是客戶的需求，而滿足客戶的需求是我們不變的宗旨。恒譽真空為了客戶能夠更快的接收到產品，我們出售的精密光學鍍膜設備提供使用陸運;公路運輸的方式來運送。創新是根本，質量是生命，務實是宗旨，效益是目標。我司堅持創新經營模式，勇于創新勇于嘗試；堅持產品質量的追求，不懈進取，努力為客戶提供質量過人的產品；我司堅持在務實誠信的基礎上，努力實現企業效益的增長。

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