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光學鍍膜設備，恒譽真空物超所值的卷繞鍍膜機出售， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司創始于2012-07-23。在競爭日益激烈的機械和行業設備專用配件行業中發憤圖強、積極進取、力爭上游，創辦至今已為廣大需求群體提供了數不勝數的好品質卷繞鍍膜機，好的產品品質獲得了需求群體一致肯定，在消費者中有口皆碑。

恒譽真空經過多年的經營發展，公司已經擁有一支頗具水準的經營團隊。生產的卷繞鍍膜機主要用于鍍膜，主要服務于廣東、肇慶地區。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質經營”的營業理念，為廣大需求群體供應優異的產品，同時提高售后服務質量，提升客戶滿意程度。

“打造行業好，滿足客戶的可靠需求”，我公司供應的卷繞鍍膜機支持在線支付;銀行轉賬的付款方式，一旦您付款，我們將會在雙方協商的時間發貨（運費：買賣雙方協商）。公司擁有成熟的產品檢測設備和科學的企業管理方法、精細的制造工藝及高科技人才做保障。卷繞鍍膜機好銷售國內機械和行業設備專用配件市場。

光學鍍膜設備，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

光學鍍膜設備，恒譽真空物超所值的卷繞鍍膜機出售， “追求”長期是我們的主題，我們將勵精圖治，再創佳績，力爭上游。我司經營優良的卷繞鍍膜機，產品質量優異，也為需求群體提供多方位的服務。恒譽真空堅持用誠信謀發展，對設備質量要求嚴格，設有可靠的技術人員負責質量把關，受到廣大需求群體的支持。歡迎有意向的客戶前來參觀指導合作！地址：肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側

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