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鍍膜機廠家加工，供應廣東蒸發式卷繞鍍膜設備， 你還在為尋找好的蒸發式卷繞鍍膜設備而煩惱嗎？不要再煩惱了，肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司會為你解決關于機械和行業設備專用配件的問題。多年來，我司深知要想不被淘汰，只有跑在前面，因而一直致力于蒸發式卷繞鍍膜設備的研究與開發，不懈的努力下終是卓有成效，得到了眾多使用單位的認可。產品質量、品質都可圈可點，供應的蒸發式卷繞鍍膜設備符生產標準，品質可靠。

一直以來，恒譽真空都走在行業前列，在服務上不斷地顧客的需求，在生產上不斷地市場的需求。在客戶正式下訂單后，蒸發式卷繞鍍膜設備可支持在線支付;銀行轉賬的方式支付貨款，并且會在雙方協商的時間時間內為需求群體派送，運費買賣雙方協商，力求交易過程中有效、便利。我司必將不懈努力，專注于對產品質量的追求。

本公司生產的蒸發式卷繞鍍膜設備銷售于全國;廣東、肇慶地區，不管是自主產品還是代理產品都已經達到同種產品中的產品，深受需求群體的信賴與支持。恒譽真空憑借多年來對蒸發式卷繞鍍膜設備的生產經銷經驗，重視服務，強化服務，堅信“客戶想到的我們要做到，客戶沒有想到的我們也要做到”，公司業績在同行業中有口皆碑。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

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