產(chǎn)品庫

氧化鋯陶瓷墊圈制造公司，東莞哪里有供應(yīng)好用的氧化鋯陶瓷墊圈， 可靠定位、打造、不斷創(chuàng)新，從成立之初，礫石實(shí)業(yè)以開拓進(jìn)取，追求的精神，迅速發(fā)展為集設(shè)計(jì)、開發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的絕緣材料制造企業(yè)，主營的氧化鋯陶瓷墊圈廣泛用于加工零件。礫石實(shí)業(yè)可靠為工業(yè)陶瓷使用人群定制，想用戶之所想，為您提供品質(zhì)、合理的價(jià)格以及完善的服務(wù)。

東莞市礫石實(shí)業(yè)投資有限公司是集氧化鋯陶瓷墊圈生產(chǎn)、營銷于一體的礫石實(shí)業(yè)擁有可靠的技術(shù)人員和生產(chǎn)管理團(tuán)隊(duì)，國內(nèi)成熟生產(chǎn)設(shè)備和高新技術(shù)，我們的氧化鋯陶瓷墊圈銷售地區(qū)遍及全國。公司自2009-08-05成立以來，憑借良好的信譽(yù)和有品質(zhì)的絕緣材料產(chǎn)品，以及有效的售后服務(wù)在業(yè)內(nèi)取得了良好口碑。

一直以來，以市場和客戶的需求為導(dǎo)向，不斷推陳出新，為了讓客戶享受到的服務(wù)，礫石實(shí)業(yè)在氧化鋯陶瓷墊圈的經(jīng)營過程中秉持真誠的態(tài)度，提供完善的服務(wù)，對(duì)于客戶下單的氧化鋯陶瓷墊圈，我們會(huì)在3-5天及時(shí)為其配送，客戶可通過在線支付;現(xiàn)金支付;銀行轉(zhuǎn)賬;貨到付款方式進(jìn)行款項(xiàng)結(jié)清，以滿足不同用戶需求。

氧化鋯陶瓷墊圈制造公司，

靶材的主要性能要求

純度

純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質(zhì)含量

靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

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