新款碳化硅陶瓷密封圈_優良的碳化硅陶瓷球供銷， 東莞市礫石實業投資有限公司位于東城街道渦嶺工業路8號419室，是一家經營范圍以絕緣材料為主的有限責任公司，公司自2009-08-05成立以來，以其穩健的步伐，發展成為一家從商用領域到家用領域的多樣化家具家電企業，公司碳化硅陶瓷球好銷售全國各個區域。

礫石實業在不斷完善產品結構的同時，以特別、新穎、豪華為目標，讓碳化硅陶瓷球向好的檔次發展，規范企業管理，可靠開發生產了系列碳化硅陶瓷球，并開拓了外貿貿易形式。產品以其精巧的工藝，新穎的造型，優良的品質贏得了廣大工業陶瓷使用人群和消費者的信賴。

我們緊跟絕緣材料市場消費潮流，結合用戶的現實需求，推出了一系列碳化硅陶瓷球，以充分滿足國內外市場對有品質產品的消費需求。礫石實業供應的碳化硅陶瓷球涉及外貿，針對全國的客戶，我們還采用批發;廠家;網上銷售的方式進行銷售，并采取陸運的方式發送貨物，相關配送產生的費用由買家承擔。

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靶材的主要性能要求

純度

純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業的迅速發展，硅片尺寸由6”, 8“發展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質含量

靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

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