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    鍍膜設(shè)備廠家-優(yōu)良的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備恒譽(yù)真空供應(yīng)

    供應(yīng)商:肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司【公司商鋪】

    所在地:廣東省肇慶市

    聯(lián)系人:宋生

    價(jià)格:面議

    品牌:恒譽(yù),,,,

    發(fā)布時(shí)間:2024-07-30

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    鍍膜設(shè)備廠家,優(yōu)良的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備恒譽(yù)真空供應(yīng), 肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司坐落于肇慶市高要區(qū)金渡鎮(zhèn)世紀(jì)大道交警中隊(duì)西側(cè),于2012-07-23創(chuàng)辦,自成立以來(lái)就致力于直流磁控濺射鍍膜設(shè)備的生產(chǎn)與經(jīng)營(yíng)銷(xiāo)售。公司擁有一大批可靠技術(shù)人才,充分滿足廣大中小企業(yè)對(duì)產(chǎn)品的需求,為客戶(hù)供應(yīng)市場(chǎng)上好的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備。

    恒譽(yù)真空是一家具有實(shí)力的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn)企業(yè),一直把滿足客戶(hù)要求作為企業(yè)經(jīng)營(yíng)的核心,嚴(yán)把質(zhì)量關(guān)口,努力提率是我們的目標(biāo)。我司堅(jiān)持不懈,努力為中小企業(yè)提供適應(yīng)市場(chǎng)需求的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備。“創(chuàng)新產(chǎn)品種類(lèi),嚴(yán)格質(zhì)量控制”,公司遵循著這樣的原則,持續(xù)為客戶(hù)提供有口碑的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備。

    鍍膜設(shè)備廠家,

    磁控濺射

    磁控濺射是物理中氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。

    磁控濺射定義

    在二極濺射中增加一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng),借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng),把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來(lái)增強(qiáng)電離效率,增加離子密度和能量,從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射的過(guò)程。

    磁控濺射原理

    磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用,產(chǎn)生E(電場(chǎng))×B(磁場(chǎng))所指的方向漂移,簡(jiǎn)稱(chēng)E×B漂移,其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng),則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng),它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng),而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來(lái)轟擊靶材,從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。

    隨著碰撞次數(shù)的增加,二次電子的能量消耗殆盡,逐漸遠(yuǎn)離靶表面,并在電場(chǎng)E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低,傳遞給基片的能量很小,致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程,和靶原子碰撞,把部分動(dòng)量傳給靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量,離開(kāi)靶被濺射出來(lái)。

    磁控濺射種類(lèi)

    磁控濺射包括很多種類(lèi)。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

    靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場(chǎng)位形分布不同,大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。

    多年的持續(xù)發(fā)展,恒譽(yù)真空的規(guī)模不斷發(fā)展壯大。我司供有完善的銷(xiāo)售和售后團(tuán)隊(duì)的服務(wù),已在中小企業(yè)中取得用戶(hù)廣泛的支持。公司注重產(chǎn)品質(zhì)量,以及提供完善細(xì)致的服務(wù),對(duì)于公司售出的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備,公司不僅會(huì)在雙方協(xié)商的時(shí)間內(nèi)準(zhǔn)時(shí)發(fā)貨,并且還提供產(chǎn)品售出后質(zhì)保一年的售后服務(wù)。

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