肇慶恒譽，高質量的直流磁控濺射鍍膜設備哪里有賣， 恒譽真空經過多年的經營發展，公司已經擁有一支頗具水準的經營團隊。生產的直流磁控濺射鍍膜設備主要用于通過磁控濺射的方法能在工件表面鍍制各種金屬，或其化合物膜層，以達到改變其光電磁性能或起到裝飾性功效，主要服務于廣東肇慶地區。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質經營”的營業理念，為廣大中小企業供應優異的產品，同時提高售后服務質量，提升客戶滿意程度。

恒譽真空針對售出的直流磁控濺射鍍膜設備提供產品售出后質保一年的售后服務，如果您在使用直流磁控濺射鍍膜設備時發現產品出現任何非人為損壞的質量問題，都可在保修期內送到廣東肇慶等多家售后服務點進行相關售后處理，我們的產品擁有一年的保修期。

肇慶恒譽，

磁控濺射

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。

隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

磁控濺射種類

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23，是一家可靠從事直流磁控濺射鍍膜設備經營銷售的有限責任公司。集研發、生產、銷售、服務于一體。產品應用領域廣泛，在機械和行業設備專用配件行業領域占有的市場，獲得了眾多用戶的好評。嚴格質量過程控制，合同交貨周期，至今已創下良好的信譽及口碑，以技術過硬、服務周到而享譽全國;廣東。

肇慶恒譽，高質量的直流磁控濺射鍍膜設備哪里有賣， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司坐落于肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側，是一直專注于直流磁控濺射鍍膜設備生產和研發的公司，產品的質量與服務都深受眾多中小企業滿意認可。我司努力提高售后服務質量 , 提升客戶滿意程度。如您想選購優異的直流磁控濺射鍍膜設備，歡迎前來咨詢，我們有相關方面可靠人員為您介紹我們的產品。

歡迎電話來訪，我們有人員為您介紹傾銷直流磁控濺射鍍膜設備，肇慶恒譽，鏡片鍍膜機的相關信息