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鍍膜機廠家_恒譽真空立式蒸發鍍膜設備供貨商， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23，是一家機械和行業設備專用配件各類產品，其中立式蒸發鍍膜設備為公司主導產品。憑借成熟的生產設備及可靠的經營管理模式，公司產品以有品質、高價值銷售于全國;廣東、肇慶，深受中小企業的歡迎。

恒譽真空是一家具有實力的立式蒸發鍍膜設備生產企業，一直把滿足客戶要求作為企業經營的核心，嚴把質量關口，努力提率是我們的目標。我司堅持不懈，努力為中小企業提供適應市場需求的立式蒸發鍍膜設備。“創新產品種類，嚴格質量控制”，公司遵循著這樣的原則，持續為客戶提供有口碑的立式蒸發鍍膜設備。

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磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空技術力量雄量，制造設備精良，檢驗手段成熟，現已發展成為集設備研發、生產制造、銷售服務于一體的高新技術企業。恒譽真空依靠高素質的員工，健全的工藝設備，完整的質量管理體系，產品售出后質保一年的售后服務，不斷開拓創新，為廣大中小企業提供可靠的立式蒸發鍍膜設備。

鍍膜機廠家_恒譽真空立式蒸發鍍膜設備供貨商， 在高速高精時代大環境下，恒譽真空以客戶為中心，以市場為導向，依法合規開展經營活動。公司將一如既往的供應有品質、高精度、有效能的立式蒸發鍍膜設備，以滿足中小企業需求，不斷為廣大客戶提供好的產品服務，立志成為機械和行業設備專用配件業界的企業。公司地址：肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側，歡迎您對我們提出建議或意見。

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