真空電鍍機|恒譽真空供應優良的直流磁控濺射鍍膜設備
所在地:廣東省肇慶市
聯系人:宋生
價格:面議
品牌:恒譽,,,,
發布時間:2024-04-30
【產品詳情】真空電鍍機|恒譽真空供應優良的直流磁控濺
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真空電鍍機|恒譽真空供應優良的直流磁控濺射鍍膜設備, 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司擁有一支經驗豐富、實力過硬的生產銷售隊伍,專注于直流磁控濺射鍍膜設備的生產和研發,自成立以來,始終把客戶的利益放在靠前,不斷引進吸收國內外同行的設計理念和制造技術,在機械和行業設備專用配件行業中成績顯著,并積極為客戶開發低成本,高生產效率,滿足客戶需要的新產品。公司立志為廣大中小企業提供優異的直流磁控濺射鍍膜設備產品,始終堅持誠信和互惠原則,堅持用真誠的服務去打動客戶。
恒譽真空在機械和行業設備專用配件行業風生水起。創新領發展,科技成就收獲。我司擁有大批技術可靠的員工,以技術實力為基礎,生產直流磁控濺射鍍膜設備。在機械和行業設備專用配件里深受廣大中小企業的認可與好評。歡迎前來合作,共同發揮企業已有的整體優勢,依靠科技進步和科學管理,進一步調整產業結構,擴大經營規模,拓展經營領域。
恒譽真空供應的直流磁控濺射鍍膜設備質量可靠,您在購買過程中請仔細檢查我們的參數是否與您要購買的參數一致。若達成交易,我們會在雙方協商的時間內發貨,并提供產品售出后質保一年的售后服務。經濟講效益,管理講制度,辦事講原則,工作講效率,我司注重辦事效率,致力于為客戶提供兼顧及時性與準確性的好服務。
真空電鍍機,
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高,但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域,從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構,同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備,多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規模采用。為解決此問題,發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面,以及靶源表面。從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。
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