真空電鍍機|恒譽真空供應優良的直流磁控濺射鍍膜設備， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司擁有一支經驗豐富、實力過硬的生產銷售隊伍，專注于直流磁控濺射鍍膜設備的生產和研發，自成立以來，始終把客戶的利益放在靠前，不斷引進吸收國內外同行的設計理念和制造技術，在機械和行業設備專用配件行業中成績顯著，并積極為客戶開發低成本，高生產效率，滿足客戶需要的新產品。公司立志為廣大中小企業提供優異的直流磁控濺射鍍膜設備產品，始終堅持誠信和互惠原則，堅持用真誠的服務去打動客戶。

恒譽真空在機械和行業設備專用配件行業風生水起。創新領發展，科技成就收獲。我司擁有大批技術可靠的員工，以技術實力為基礎，生產直流磁控濺射鍍膜設備。在機械和行業設備專用配件里深受廣大中小企業的認可與好評。歡迎前來合作，共同發揮企業已有的整體優勢，依靠科技進步和科學管理，進一步調整產業結構，擴大經營規模，拓展經營領域。

恒譽真空供應的直流磁控濺射鍍膜設備質量可靠，您在購買過程中請仔細檢查我們的參數是否與您要購買的參數一致。若達成交易，我們會在雙方協商的時間內發貨，并提供產品售出后質保一年的售后服務。經濟講效益，管理講制度，辦事講原則，工作講效率，我司注重辦事效率，致力于為客戶提供兼顧及時性與準確性的好服務。

真空電鍍機，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

真空電鍍機|恒譽真空供應優良的直流磁控濺射鍍膜設備， 成熟的銷售網絡渠道，可靠的售后服務隊伍，依托特別的經驗和過人的技術，使恒譽真空的直流磁控濺射鍍膜設備在眾多同類產品中脫穎而出，用戶遍布全國。公司一貫遵循 “誠信為本、質優價廉” 的經營理念，多年來發展良好，公司還將繼續往這條路走下去，我們有理由相信恒譽真空的明天會更加美好。愿與廣大客戶締結良好合作關系，歡迎前來參觀合作。

以上真空鍍膜機，恒譽真空，真空電鍍機的相關信息由肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司提供，更多詳情，歡迎致電我們了解咨詢