產(chǎn)品庫

氧化鋯陶瓷墊圈制造公司_品質(zhì)有保障的氧化鋯陶瓷墊圈供銷， 東莞市礫石實業(yè)投資有限公司地處于東城街道渦嶺工業(yè)路8號419室，自2009-08-05成立以來就致力成為絕緣材料行業(yè)領(lǐng)域者，終堅持產(chǎn)品的高標(biāo)準(zhǔn)、高質(zhì)量、嚴要求，為企業(yè)生存的核心競爭力，礫石實業(yè)憑借獨有的技術(shù)優(yōu)勢，歷時多年的發(fā)展，現(xiàn)已成為以可靠研發(fā)、生產(chǎn)氧化鋯陶瓷墊圈，為工業(yè)陶瓷使用人群提供質(zhì)優(yōu)價美的家具家電產(chǎn)品。

氧化鋯陶瓷墊圈制造公司，

靶材的主要性能要求

純度

純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質(zhì)含量

靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

礫石實業(yè)在東莞市為廣大工業(yè)陶瓷使用人群提供全新的氧化鋯陶瓷墊圈，產(chǎn)品采用外貿(mào)的形式銷于全國。產(chǎn)品主要用于加工零件，請工業(yè)陶瓷使用人群妥善放置。

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