光學鍍膜機廠家定制，好用的雙門光學鍍膜設備推薦， 恒譽真空形成了一批精干、效率高、可靠化的技術隊伍，公司主營的產品以雙門光學鍍膜設備為主。公司堅持以滿足客戶需求為主要目的，換位思考，感悟客戶需求；在向社會提供可靠的產品及服務的同時，不斷拓展思路，健全產品的質量管理制度；引進高科技人才，提升產品及服務層次，不斷提供給用戶滿意的雙門光學鍍膜設備與服務。

公司優化生產運作過程，實現效率和效益的結合，通過自身積累，現已擁有一批高素質的管理人才和技術人才，形成了一套科學的管理制度。我公司供應的雙門光學鍍膜設備，站在用戶角度，考量用戶需求，提供在線支付;銀行轉賬的付款方式。同時產品能夠在雙方協商的時間內發貨，使產品在同行業中有著較高的發貨效率，在客戶群中建立了良好的信譽。

恒譽真空主要從事雙門光學鍍膜設備的研發與生產，創新技術，規范管理，目前已經成為生產雙門光學鍍膜設備的主流企業之一。我公司供應的產品主要銷往全國;廣東、肇慶，產品性能優異，受到需求群體的一致好評。公司秉持著“用戶至上，重視需求”的理念，精益求精、不斷創新，以良好的產品品質，完善的售后服務回報廣大用戶。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

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