鍍膜設備廠家，恒譽真空直流磁控濺射鍍膜設備價格， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23，是一家機械和行業設備專用配件各類產品，其中直流磁控濺射鍍膜設備為公司主導產品。憑借成熟的生產設備及可靠的經營管理模式，公司產品以有品質、高價值銷售于全國;廣東，深受中小企業的歡迎。

恒譽真空本著可靠執著，精益求精的精神，踐行“質量是企業信譽的基石”的指導方針。從產品品質著手生產制造直流磁控濺射鍍膜設備，以客戶的需求為生產的源動力，直流磁控濺射鍍膜設備有著良好的用戶評價。堅持以“質量取勝”的生產原則，力求為想購買直流磁控濺射鍍膜設備的客戶群眾提供滿意、放心的產品。

恒譽真空擁有成熟的生產制造設備，雄厚的科學技術力量，以及現代化的質量檢測手段和完善的售后服務。通過嚴格的產品管理體系，公司有著良好的企業信譽，產品遍布全國;廣東各地。本公司通過批發;零售;的銷售方式將的直流磁控濺射鍍膜設備供應給機械和行業設備專用配件市場，我們的產品優異，價格公道，請您放心購買。

鍍膜設備廠家，

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

鍍膜設備廠家，恒譽真空直流磁控濺射鍍膜設備價格， 我司堅持科學發展，加強自主創新，提高核心競爭力。直流磁控濺射鍍膜設備制作材料上乘，價格公道，公司服務態度較好，合作信譽優良。肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司實施自主創新戰略，建設創新型企業。歡迎廣大客戶光臨惠顧精誠合作，共展宏圖。公司地址：肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側

想更深入的了解價位合理的直流磁控濺射鍍膜設備，鍍鏡機，真空鍍膜機，磁控鍍膜機廠家，鍍膜設備廠家，請電話來詢，肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司全天恭候您的來電