氧化鋯電器陶瓷結構件_優惠的氧化鋯電器陶瓷結構件批銷， 東莞市礫石實業投資有限公司地處于東城街道渦嶺工業路8號419室，自2009-08-05成立以來就致力成為絕緣材料行業領域者，終堅持產品的高標準、高質量、嚴要求，為企業生存的核心競爭力，礫石實業憑借獨有的技術優勢，歷時多年的發展，現已成為以可靠研發、生產氧化鋯電器陶瓷結構件，為工業陶瓷使用人群提供質優價美的家具家電產品。

礫石實業在注重產品質量和企業信譽的同時，不斷引進可靠技術人才和現代化經營管理模式，嚴格控制氧化鋯電器陶瓷結構件質量，以精巧的產品生產工藝、完善的售后服務呈現于廣大工業陶瓷使用人群。作為氧化鋯電器陶瓷結構件的一貫銷售方式，主要是通過批發;廠家;網上銷售的方式售給全國客戶群眾，并支持陸運等物流方式。

長期以來，礫石實業在自主研發的基礎上，不斷汲取國內外成熟技術，氧化鋯電器陶瓷結構件不斷推陳出新，其優越的品質，受到了社會各界的一致認可，為工業陶瓷使用人群帶來了舒適、愜意、時尚的產品享受。公司始終走在絕緣材料行業的前端，供應的氧化鋯電器陶瓷結構件不僅在加工零件得到很好的運用，更是被廣泛的應用在諸多領域。

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靶材的主要性能要求

純度

純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業的迅速發展，硅片尺寸由6”, 8“發展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質含量

靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

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