顆粒粒徑分析儀測量原理
所在地:上海市市轄區
聯系人:柯昌衛
價格:面議
品牌:青福機電
發布時間:2023-07-31
【產品詳情】顆粒粒徑分析儀測量原理
查看該公司全部產品>>顆粒粒徑分析儀是一種用于測量和分析顆粒物體的粒徑(尺寸)分布的儀器。它可以應用于不同領域,如材料科學、環境監測、食品工業、制藥等。 顆粒粒徑分析儀可以使用多種測量原理進行粒徑分析,其中常見的包括: 1.激光散射原理:通過激光束照射到樣品上,測量散射光的角度和強度變化,從而計算出顆粒的粒徑分布。 2.動態光散射原理:利用顆粒在液體或氣體中的擴散運動,通過測量光散射的強度和時間變化,計算出粒徑分布。 3.圖像分析原理:基于圖像處理技術,通過拍攝顆粒的圖像并分析其形狀和大小,得出粒徑分布。 顆粒粒徑分析儀通常具有以下特點: 1.快速:能夠快速地測量大量顆粒,并生成粒徑分布曲線或報告。 2.寬尺寸范圍:能夠測量不同粒徑范圍的顆粒,從納米級到幾毫米甚至更大。 3.自動化功能:一些顆粒粒徑分析儀配備自動進樣和數據處理功能,提高操作效率和減少人為誤差。 4.多種參數測量:除了粒徑,還可以測量顆粒的形狀、濃度、表面電荷等參數。 更多產品信息來源:http://www.coulter-particle.com/Products-30405326.html https://www.chem17.com/st20273/product_30405326.html
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