產(chǎn)品庫

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恒譽(yù)真空產(chǎn)品質(zhì)量可靠，價(jià)格公道，每一個(gè)出庫的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備都要經(jīng)過嚴(yán)格質(zhì)量檢測，達(dá)到質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)才可以出廠。高標(biāo)準(zhǔn)，精細(xì)化，零缺陷，是企業(yè)對職工的基本要求。當(dāng)中小企業(yè)與我公司簽訂訂單后，您需要注意我司指定的付款方式為銀行轉(zhuǎn)賬，臨時(shí)有變動(dòng)的情況下，我們會(huì)及時(shí)與您取得聯(lián)系。

肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司坐落于肇慶市高要區(qū)金渡鎮(zhèn)世紀(jì)大道交警中隊(duì)西側(cè)，公司以直流磁控濺射鍍膜設(shè)備的生產(chǎn)銷售為主要業(yè)務(wù)。擁有成熟的成套生產(chǎn)設(shè)備和一批經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)人才。經(jīng)過多年的發(fā)展，恒譽(yù)真空迎來了新的春天，現(xiàn)生產(chǎn)的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備銷往全國，并在國內(nèi)重要省市建立了完善的售后服務(wù)體系，為中小企業(yè)提供具有針對性的技術(shù)支持和發(fā)展空間。

鍍膜設(shè)備定制，

平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運(yùn)動(dòng)主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴(kuò)展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。

旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實(shí)際操作困難。

主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個(gè)問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源。

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