恒譽真空，大量供應品質可靠的磁控濺射卷繞鍍膜設備， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司始建于2012-07-23，是一家機械和行業設備專用配件有限責任公司。公司主要生產磁控濺射卷繞鍍膜設備，經過多年的長期發展和技術革新，現已發展成一家專門的公司。為了擴大本行業市場需求，現誠邀廣大的新老客戶前來咨詢，與我司共同建有質量文化的質量體系，創造有魅力、有靈魂的產品。

恒譽真空生產的磁控濺射卷繞鍍膜設備，選用精良的材質，產品質量優異，制作工藝精巧，主要用于鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，能起到增透、濾光、裝飾等功效。我司產品在全國擁有很好的銷量，有需要的客戶請到我公司銷售網點選購，我們將以批發;零售;的方式進行銷售并以陸運;公路運輸方式為您進行貨物配送。誠信為本，合作共贏是本公司的文化理念，我司積極開展廣泛合作。

恒譽真空，

平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空以有效生產磁控濺射卷繞鍍膜設備為主營方向，產品很好的詮釋其鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，能起到增透、濾光、裝飾等功效的用途，主要銷售往全國等地區。依靠完善、機制健全、不斷強化的服務理念，為了方便廣大中小企業，我司盡心盡力提供完善的售后服務，也因此受到需求客戶一致的好評與贊譽。

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