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電路板清洗干冰雪花顆粒清洗設(shè)備光纖元件清洗-常州二氧化碳清洗設(shè)備綠色環(huán)保

專(zhuān)注技術(shù)創(chuàng)新與用戶(hù)需求的有機(jī)結(jié)合，迪史潔干冰雪花清洗設(shè)備重視技術(shù)創(chuàng)新的力量，積極收集用戶(hù)不同需求。公司以二氧化碳雪花設(shè)備為主導(dǎo)產(chǎn)品，產(chǎn)品銷(xiāo)售于全國(guó)地區(qū)，在市場(chǎng)占有的份額，贏得了廣大芯片行業(yè)的青睞。我們始終一如既往地以為客戶(hù)提供滿(mǎn)意服務(wù)為宗旨，為更多用戶(hù)提供更多有品質(zhì)高質(zhì)量的二氧化碳雪花設(shè)備。

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創(chuàng)新的二氧化碳雪花設(shè)備_上海干冰雪花顆粒清洗設(shè)備迪史潔清潔技術(shù)

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干冰雪花表面處理涂裝前零件的無(wú)水清洗和表面預(yù)處理表面處理特點(diǎn)：快速清除顆粒物、雪花清洗灰塵和碎屑；雪花清洗去除薄膜、脫模劑和油；自動(dòng)提供無(wú)接觸清洗解決方案；改造現(xiàn)有設(shè)備、噴漆室雪花清洗、機(jī)器人雪花清洗等。；可選添加劑注入，提高清洗能力；無(wú)需后干燥步驟。

迪史潔擁有在的成熟的精密清潔系統(tǒng)，以及擁有一些挑戰(zhàn)性的應(yīng)用。在很多行業(yè)得到了利用，我們的公司雪花清洗幾乎滿(mǎn)足了全國(guó)對(duì)某些大批量產(chǎn)品的需求。

DSJet一直走在這條清洗的前列，不斷提供的干冰雪清潔產(chǎn)品，這些產(chǎn)品對(duì)環(huán)境友好，不使用去離子水、化學(xué)物質(zhì)和廢物。綠色環(huán)保。

迪史潔干冰雪清潔技術(shù)是基于醫(yī)療雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半導(dǎo)體、牙科雪花清洗、原始設(shè)備制造、工業(yè)微電子雪花清洗、光纖、太陽(yáng)能雪花清洗、珠寶和服裝行業(yè)的精密清洗系統(tǒng)。

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無(wú)錫干冰雪花顆粒清洗設(shè)備光纖元件清洗_無(wú)錫二氧化碳清洗設(shè)備改善清潔工藝

CO2雪花清洗去除使用二氧化碳去除污垢，不磨損且干燥。濃縮二氧化碳固體雪粒噴灑在表面，導(dǎo)致不需要的污染物和灰塵被吹走。在CO2雪花清洗之后撞擊表面，蒸發(fā)，不留痕跡。

CO2雪花清洗優(yōu)點(diǎn):去除小到0.2到0.3微米的顆粒。清潔部分組裝的部件，比傳統(tǒng)的水基系統(tǒng)需要更少的占地面積。

CO2雪花清洗殘留物清除一種能夠進(jìn)行污點(diǎn)清潔的干凈、干燥的過(guò)程。從基材上去除殘留物和薄膜，如油、光指紋、其他生物類(lèi)型有機(jī)物和灰塵。

CO2雪花清洗優(yōu)點(diǎn):適合手動(dòng)或自動(dòng)使用，周期短，無(wú)需干燥(節(jié)能)，清潔可變性小，提高粘合強(qiáng)度，環(huán)保。

煙灰去除用激光焊接工藝去除鈦零件上的煙灰。高價(jià)值的清洗，為許多醫(yī)療應(yīng)用做準(zhǔn)備。焊接工藝目前正在醫(yī)療、航空、飛機(jī)、電子、光學(xué)、運(yùn)輸、珠寶、太陽(yáng)能電池板和成型/成型行業(yè)中實(shí)施。

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微電子清潔二氧化碳清洗設(shè)備半導(dǎo)體清洗應(yīng)用_上海干冰噴霧清洗設(shè)備_常州干冰噴霧清洗設(shè)備

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我們的使命:將創(chuàng)新的CO2雪花技術(shù)應(yīng)用于復(fù)雜的精密清洗、提取和冷卻應(yīng)用，以環(huán)保的方式提高生產(chǎn)率、質(zhì)量和安全性。

迪史潔干冰雪花清洗是一種的顆粒去除技術(shù)，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、硬盤(pán)、表面處理、電子等行業(yè)。這種有效清潔技術(shù)的關(guān)鍵特征包括能夠去除大量顆粒物質(zhì)而不凝結(jié)、不磨損、不殘留、不接觸。

少量液相迪史潔干冰雪花清洗被注射并與加熱和壓力調(diào)節(jié)的惰性推進(jìn)氣體混合，以形成具有可控噴霧組成和清潔能量的均勻清潔噴霧混合物。根據(jù)混合噴嘴組件的幾何形狀、噴霧混合比、推進(jìn)劑壓力和溫度，輸送到基底的清潔能量是完全可調(diào)的。固體迪史潔干冰雪花清洗顆粒以高速撞擊基底，在表面污染物上產(chǎn)生高剪切應(yīng)力。這一作用產(chǎn)生了化學(xué)活性固相，提供了顆粒物質(zhì)、無(wú)機(jī)殘留物和有機(jī)薄膜污染物的去除。在與污染物和表面接觸后，固體一氧化碳2顆粒升華，沒(méi)有留下清潔劑的痕跡。殘留物通過(guò)一個(gè)集成的通風(fēng)系統(tǒng)從清潔區(qū)清除。

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公司二氧化碳雪花設(shè)備品種多樣，質(zhì)量過(guò)硬，庫(kù)存充足，銷(xiāo)售渠道有保障，擁有可靠為芯片行業(yè)服務(wù)的團(tuán)隊(duì)。我們本著“公平，公正”的交易原則，為廣大需求客戶(hù)提供二氧化碳雪花設(shè)備，銷(xiāo)售方式是;廠(chǎng)家。我司在實(shí)現(xiàn)企業(yè)與社會(huì)共發(fā)展的目標(biāo)進(jìn)程中，每一個(gè)人都忠誠(chéng)自己的團(tuán)隊(duì)，勇挑重?fù)?dān)，發(fā)揮潛能，用心做事。的產(chǎn)品都是經(jīng)過(guò)檢測(cè)，有質(zhì)量保障的，請(qǐng)您放心購(gòu)買(mǎi)！

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ITO薄膜具有高透射率、低電阻率的特性，在顯示器件中常用作透明電極。ITO玻璃基板表面的清潔程度，直接影響到液晶顯示器件生產(chǎn)的成品率；對(duì)于OLED器件，lTO薄膜表面狀態(tài)的影響更大。其清洗方法及表面處理工藝都將影響到ITO薄膜的特性，如化學(xué)組成、ITO表面的功函數(shù)、ITO薄膜和有機(jī)層的接觸特性等，進(jìn)而影響OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量級(jí)的粒子和所有的有機(jī)、無(wú)機(jī)化學(xué)物質(zhì)及污跡、水跡等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的親和性。

目前經(jīng)常用于ITO玻璃表面處理的方法有：化學(xué)方法(酸或堿處理)和物理方法(機(jī)械拋光、熱處理、氧等離子體處理、氧輝光放電及臭氧環(huán)境紫外線(xiàn)處理等)。本文采用的是干冰顆粒噴射清洗技術(shù)。1986年提出將此方法用于表面清潔。之后W.Gerristead等人對(duì)2英寸單晶硅基片進(jìn)行干冰顆粒噴射清洗，清洗前后硅片上的雜質(zhì)顆粒由538000／cm2減少到342／cm2，減少程度達(dá)99.9％；經(jīng)x光電子能譜(XPS)測(cè)量，清洗前后的基片表面上碳?xì)浠_(tái)物的含量降低了25％～30％。此外，干冰顆粒噴射清洗法用于金屬、陶瓷、光學(xué)器件、聚合體表面、CMOS圖像傳感器也取得了很好的清洗效果

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干燥和無(wú)溶劑的過(guò)程沒(méi)有殘留物留在表面。部件上幾乎不存在冷凝，盡管它可能發(fā)生在薄邊金屬部件上。如有必要，可以使用壓縮空氣加熱器加熱工藝空氣。因此可以完全避免濕氣的積聚。

對(duì)材料的影響更多CO2雪花技術(shù)咨詢(xún)，產(chǎn)品和服務(wù)將陸續(xù)發(fā)布。

CO2噴雪是一種對(duì)要清潔的基底溫和的工藝，因?yàn)楸砻娌粫?huì)被堅(jiān)硬的壓縮顆粒機(jī)械損壞。它能夠清潔金屬、合成材料、橡膠、木材和紡織品表面。即使是精密的復(fù)合材料、軟金屬和電子元件也可以不受損傷地進(jìn)行處理

許多不同的清潔應(yīng)用已被成功證明:金屬光學(xué)和玻璃陶瓷工藝聚合物原子力顯微鏡檢查表面分析, 真空系統(tǒng)和表面科學(xué)望遠(yuǎn)鏡藝術(shù)修復(fù)火災(zāi)恢復(fù)從金屬、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物硅、磷化銦和GaAs晶片上顆粒和污漬去除

清潔光學(xué)器件，即鍍膜透鏡、激光、紅外和紫外光學(xué)器件、金剛石車(chē)削光學(xué)器件

表面分析(俄歇、XPS、SIMS)和原子力顯微鏡前的樣品制備

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公司自2006-07-05成立以來(lái)，勇于探索，力爭(zhēng)上游。憑借其優(yōu)異的二氧化碳雪花設(shè)備和系統(tǒng)的售后服務(wù)，在行業(yè)中取得了良好的信譽(yù)。本公司倡導(dǎo)上下一心，真誠(chéng)合作，開(kāi)拓創(chuàng)新的企業(yè)精神，堅(jiān)持質(zhì)量至上的產(chǎn)品宗旨，贏得了廣大芯片行業(yè)的大力支持和信賴(lài)。真誠(chéng)歡迎各界朋友蒞臨迪史潔（上海）清洗設(shè)備有限公司參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。

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