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哪里有二氧化碳雪花設備-蘇州二氧化碳清洗設備迪史潔清潔技術

迪史潔干冰雪花清洗設備主要從事二氧化碳雪花設備的研發與生產，創新技術，規范管理，目前已經成為生產二氧化碳雪花設備的主流企業之一。我公司供應的產品主要銷往全國，產品性能優異，受到芯片行業的一致好評。公司秉持著“用戶至上，重視需求”的理念，精益求精、不斷創新，以良好的產品品質，的售后服務回報廣大用戶。

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我們的使命:將創新的CO2雪花技術應用于復雜的精密清洗、提取和冷卻應用，以環保的方式提高生產率、質量和安全性。

迪史潔干冰雪花清洗是一種的顆粒去除技術，廣泛應用于光學、硬盤、表面處理、電子等行業。這種有效清潔技術的關鍵特征包括能夠去除大量顆粒物質而不凝結、不磨損、不殘留、不接觸。

少量液相迪史潔干冰雪花清洗被注射并與加熱和壓力調節的惰性推進氣體混合，以形成具有可控噴霧組成和清潔能量的均勻清潔噴霧混合物。根據混合噴嘴組件的幾何形狀、噴霧混合比、推進劑壓力和溫度，輸送到基底的清潔能量是完全可調的。固體迪史潔干冰雪花清洗顆粒以高速撞擊基底，在表面污染物上產生高剪切應力。這一作用產生了化學活性固相，提供了顆粒物質、無機殘留物和有機薄膜污染物的去除。在與污染物和表面接觸后，固體一氧化碳2顆粒升華，沒有留下清潔劑的痕跡。殘留物通過一個集成的通風系統從清潔區清除。

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ITO薄膜具有高透射率、低電阻率的特性，在顯示器件中常用作透明電極。ITO玻璃基板表面的清潔程度，直接影響到液晶顯示器件生產的成品率；對于OLED器件，lTO薄膜表面狀態的影響更大。其清洗方法及表面處理工藝都將影響到ITO薄膜的特性，如化學組成、ITO表面的功函數、ITO薄膜和有機層的接觸特性等，進而影響OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量級的粒子和所有的有機、無機化學物質及污跡、水跡等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的親和性。

目前經常用于ITO玻璃表面處理的方法有：化學方法(酸或堿處理)和物理方法(機械拋光、熱處理、氧等離子體處理、氧輝光放電及臭氧環境紫外線處理等)。本文采用的是干冰顆粒噴射清洗技術。1986年提出將此方法用于表面清潔。之后W.Gerristead等人對2英寸單晶硅基片進行干冰顆粒噴射清洗，清洗前后硅片上的雜質顆粒由538000／cm2減少到342／cm2，減少程度達99.9％；經x光電子能譜(XPS)測量，清洗前后的基片表面上碳氫化臺物的含量降低了25％～30％。此外，干冰顆粒噴射清洗法用于金屬、陶瓷、光學器件、聚合體表面、CMOS圖像傳感器也取得了很好的清洗效果

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什么是CO2爆雪？

CO2噴雪是固體表面的清潔和預處理過程。供應介質是液態CO2和壓縮空氣。，即所謂的由干冰形成的CO2雪顆粒，是在吹雪機內部產生的。清潔和表面處理干燥、無殘留、環保。CO2噴雪也常被稱為干冰噴雪或CO2粒子噴雪。

CO2噴雪需要哪些供應介質？

CO2掃雪需要壓縮空氣和液態CO2。不需要電源連接，因為我們的CO2吹雪機有一個免維護的氣動控制系統。液態CO2可通過汲取管單缸(容量高達37.5千克)或汲取管束(容量為450千克)供應，對于固定用途，也可通過儲罐供應。

在CO2噴雪中，機器中會產生小的壓縮干冰顆粒，借助高性能噴嘴加速，噴到要清潔的表面上。自由射流中CO2顆粒的流速取決于所用的噴嘴和設定參數。通常，流速范圍為50至300米/秒。使用特殊噴嘴，我們還可以實現高于330米/秒空氣聲速的流速。

CO2雪噴流中的顆粒大小是多少？

二氧化碳雪噴流中的干冰顆粒直徑為1至200米。平均直徑取決于所用的噴嘴和設置參數。由于CO2雪顆粒的尺寸小，可以清潔精細結構的表面，甚至小孔。

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迪史潔干冰雪花清洗設備以“打造行業優異，滿足客戶需求”為使命。公司擁有高素質的員工隊伍，電子設備及其它周邊配件產品的生產水平，產品主銷全國。我司不斷地對產品開拓創新，以技術為核心、視質量為生命、奉用戶為上帝，竭誠為您提供性價比好的產品。

迪史潔干冰雪花清洗設備秉承“客戶至上，以質為本”的企業宗旨，堅持“平等，合作，誠信，發展”的經營原則，為您提供品質優良，技術成熟的二氧化碳雪花設備。迪史潔（上海）清洗設備有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可，信守合同，牢記承諾，優異。歡迎各界朋友蒞臨參觀指導，望與您達成精誠合作。地址：謝春路1300弄15號A區

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