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廠家供應(yīng)二氧化碳雪花設(shè)備-合肥雪花清洗設(shè)備半導(dǎo)體清洗應(yīng)用

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DSJet干冰雪花清洗對(duì)部件表面清潔度的要求越來(lái)越高，這就需要越來(lái)越有效的清潔方法。憑借其創(chuàng)新的使用一氧化碳噴射的干洗技術(shù)DSJet干冰雪花清洗開(kāi)發(fā)了一種在線工藝，能夠去除顆粒和薄膜污染物(例如灰塵、燒蝕殘留物、飛片、焊劑殘留物、激光加工產(chǎn)生的煙霧殘留物、油、指紋、切割乳液、拋光膏等)。)以溫和但有效的方式從幾乎任何材料中提取。該工藝不僅可用于清潔較大的表面區(qū)域，還可選擇性地去除具有清潔度要求的極小功能區(qū)域的污染物。無(wú)論是用于塑料噴漆、精密機(jī)電產(chǎn)品制造、DSJet干冰雪花清洗電子或半導(dǎo)體或光學(xué)行業(yè)，為了在涂層、噴漆、連接或其他過(guò)程中獲得高質(zhì)量的結(jié)果，表面都需要沒(méi)有顆粒、油和油脂DSJet干冰雪花清洗

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我們的使命:將創(chuàng)新的CO2雪花技術(shù)應(yīng)用于復(fù)雜的精密清洗、提取和冷卻應(yīng)用，以環(huán)保的方式提高生產(chǎn)率、質(zhì)量和安全性。

迪史潔干冰雪花清洗是一種的顆粒去除技術(shù)，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、硬盤(pán)、表面處理、電子等行業(yè)。這種有效清潔技術(shù)的關(guān)鍵特征包括能夠去除大量顆粒物質(zhì)而不凝結(jié)、不磨損、不殘留、不接觸。

少量液相迪史潔干冰雪花清洗被注射并與加熱和壓力調(diào)節(jié)的惰性推進(jìn)氣體混合，以形成具有可控噴霧組成和清潔能量的均勻清潔噴霧混合物。根據(jù)混合噴嘴組件的幾何形狀、噴霧混合比、推進(jìn)劑壓力和溫度，輸送到基底的清潔能量是完全可調(diào)的。固體迪史潔干冰雪花清洗顆粒以高速撞擊基底，在表面污染物上產(chǎn)生高剪切應(yīng)力。這一作用產(chǎn)生了化學(xué)活性固相，提供了顆粒物質(zhì)、無(wú)機(jī)殘留物和有機(jī)薄膜污染物的去除。在與污染物和表面接觸后，固體一氧化碳2顆粒升華，沒(méi)有留下清潔劑的痕跡。殘留物通過(guò)一個(gè)集成的通風(fēng)系統(tǒng)從清潔區(qū)清除。

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玻璃和許多類型的光學(xué)器件已經(jīng)過(guò)清洗。清潔的物體包括玻璃、未涂覆的基底、涂覆的玻璃、透鏡、各種光學(xué)器件、金剛石車削光學(xué)器件、硅和鍺光學(xué)器件、鏡子，望遠(yuǎn)鏡鏡子，光柵(小心翼翼地)，鉆石光學(xué)，一個(gè)數(shù)碼相機(jī)。

CO2雪清潔可以清潔受污染的表面，去除加工油，去除硅酮脫模劑，清潔真空室的零件，清潔接觸銷表面，以及許多其他項(xiàng)目。它不能去除的或任何附著的氧化物。

表面科學(xué)家有時(shí)需要使用表面分析技術(shù)，在不改變基底材料的情況下去除無(wú)意或有意的污染。在這種情況下，處理、現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試或僅僅大氣暴露造成的殘留污染會(huì)干擾分析。一般來(lái)說(shuō)，試劑級(jí)的溶劑清洗可以去除大多數(shù)無(wú)意的污染，但也有溶劑清洗不充分的情況。在這些情況下，超聲波溶劑清洗可能需要太長(zhǎng)時(shí)間，或者可能無(wú)法去除或充分減少殘留物。汽車和化工行業(yè)的一些用戶就是這種情況，他們對(duì)探索測(cè)試零件的表面或現(xiàn)場(chǎng)故障感興趣。二氧化碳雪清潔的用戶可以在15秒鐘內(nèi)快速清潔這些部件，并清除足夠的殘留物，以便進(jìn)行分析。清洗可能是溶劑作用和冷凍斷裂的結(jié)合

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竭盡全力，積極進(jìn)取是我司職業(yè)精神的核心。迪史潔（上海）清洗設(shè)備有限公司積極探索，通過(guò)產(chǎn)品做精、做強(qiáng)，實(shí)現(xiàn)企業(yè)創(chuàng)新、創(chuàng)優(yōu)、創(chuàng)，成為清洗清理設(shè)備行業(yè)頗具競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè)之一。有品質(zhì)的二氧化碳雪花設(shè)備深受廣大芯片行業(yè)的支持與信賴，用戶口碑良好。愿有更多志同道合的伙伴前來(lái)參與，我們齊心協(xié)力、同舟共濟(jì)、眾志成城、共創(chuàng)輝煌。

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