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蘇州干冰雪花顆粒清洗設(shè)備-助焊劑清洗雪花清洗設(shè)備

迪史潔（上海）清洗設(shè)備有限公司是主要從事二氧化碳雪花設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的技術(shù)生產(chǎn)企業(yè)之一。擁有多年經(jīng)營經(jīng)驗(yàn)，綜合實(shí)力雄厚。以銷售為主營方向，產(chǎn)品廣泛銷售于全國。秉承以客戶價(jià)值為依歸的經(jīng)營理念，立足客戶需求，始終保持積極穩(wěn)健的發(fā)展。

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什么是CO2爆雪？

CO2噴雪是固體表面的清潔和預(yù)處理過程。供應(yīng)介質(zhì)是液態(tài)CO2和壓縮空氣。，即所謂的由干冰形成的CO2雪顆粒，是在吹雪機(jī)內(nèi)部產(chǎn)生的。清潔和表面處理干燥、無殘留、環(huán)保。CO2噴雪也常被稱為干冰噴雪或CO2粒子噴雪。

CO2噴雪需要哪些供應(yīng)介質(zhì)？

CO2掃雪需要壓縮空氣和液態(tài)CO2。不需要電源連接，因?yàn)槲覀兊腃O2吹雪機(jī)有一個(gè)免維護(hù)的氣動(dòng)控制系統(tǒng)。液態(tài)CO2可通過汲取管單缸(容量高達(dá)37.5千克)或汲取管束(容量為450千克)供應(yīng)，對(duì)于固定用途，也可通過儲(chǔ)罐供應(yīng)。

在CO2噴雪中，機(jī)器中會(huì)產(chǎn)生小的壓縮干冰顆粒，借助高性能噴嘴加速，噴到要清潔的表面上。自由射流中CO2顆粒的流速取決于所用的噴嘴和設(shè)定參數(shù)。通常，流速范圍為50至300米/秒。使用特殊噴嘴，我們還可以實(shí)現(xiàn)高于330米/秒空氣聲速的流速。

CO2雪噴流中的顆粒大小是多少？

二氧化碳雪噴流中的干冰顆粒直徑為1至200米。平均直徑取決于所用的噴嘴和設(shè)置參數(shù)。由于CO2雪顆粒的尺寸小，可以清潔精細(xì)結(jié)構(gòu)的表面，甚至小孔。

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隨著清洗清理設(shè)備市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)的推動(dòng)，我們不斷改進(jìn)自身產(chǎn)品及服務(wù)，努力適應(yīng)時(shí)代變化。以;廠家的方式讓二氧化碳雪花設(shè)備拓寬市場(chǎng)，深入用戶群體，讓更多的芯片行業(yè)受益。迪史潔干冰雪花清洗設(shè)備的工藝成熟、質(zhì)檢嚴(yán)格、流程規(guī)范獲得業(yè)界的認(rèn)可，并受到了全國地區(qū)用戶的熱捧。

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焊接表面按需清除的二氧化碳雪噴技術(shù)

DSJet雪花清洗是干冰清洗的另一種形式，雪花清洗它運(yùn)用二氧化碳的特性，在液態(tài)二氧化碳高壓釋放形成雪花狀的干冰來進(jìn)行清洗，雪花清洗具有柔和、容易控制、設(shè)備成本低等優(yōu)點(diǎn)。液態(tài)二氧化碳進(jìn)入噴嘴，在噴嘴內(nèi)形成雪花，然后通過噴嘴內(nèi)的壓縮空氣吹掃到產(chǎn)品上，從而達(dá)到清洗的目的。我們的清潔系統(tǒng)包括：干冰雪花顆粒清洗設(shè)備|干冰噴霧清洗設(shè)備|雪花清洗設(shè)備|二氧化碳清洗設(shè)備|二氧化碳雪花設(shè)備|CO2雪花設(shè)備|CO2干冰雪顆粒|多功能干冰雪花顆粒清洗機(jī)|雪花晶體清洗設(shè)備|二氧化碳清洗機(jī)|二氧化碳噴霧清洗機(jī)|CO2干冰雪|超零界CO2清洗|二氧化碳雪花清洗設(shè)備|雪花噴射技術(shù)|干冰雪清洗機(jī)|干冰雪花清洗機(jī)|雪花清洗設(shè)備|雪花清潔系統(tǒng),更多雪花技術(shù)188，166，25878（Ben），產(chǎn)品和服務(wù)將陸續(xù)發(fā)布。

迪史潔技術(shù)用于許多行業(yè)，如汽車油漆預(yù)處理、硬盤驅(qū)動(dòng)器CO2清洗、醫(yī)療設(shè)備制造CO2清洗、航空航天和電子元件CO2清洗制造。我們的應(yīng)用干燥。綠色。干凈。迪史潔專注于CO2技術(shù)創(chuàng)新，以改善制造工藝，用于廣泛的應(yīng)用。工藝通常比傳統(tǒng)的替代方法更節(jié)能。

我們的使命:將創(chuàng)新的CO2雪花技術(shù)應(yīng)用于復(fù)雜的精密清洗、提取和冷卻應(yīng)用，以環(huán)保的方式提高生產(chǎn)率、質(zhì)量和安全性。

生態(tài)友好和環(huán)境安全：通過改進(jìn)生產(chǎn)工藝，從源頭上減少環(huán)境浪費(fèi)。所有工藝都使用回收的一氧化碳2因此不會(huì)產(chǎn)生溫室氣體。

迪史潔干冰雪清潔技術(shù)是基于醫(yī)療雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半導(dǎo)體、牙科雪花清洗、原始設(shè)備制造、工業(yè)微電子雪花清洗、光纖、太陽能雪花清洗、珠寶和服裝行業(yè)的精密清洗系統(tǒng)。

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ITO薄膜具有高透射率、低電阻率的特性，在顯示器件中常用作透明電極。ITO玻璃基板表面的清潔程度，直接影響到液晶顯示器件生產(chǎn)的成品率；對(duì)于OLED器件，lTO薄膜表面狀態(tài)的影響更大。其清洗方法及表面處理工藝都將影響到ITO薄膜的特性，如化學(xué)組成、ITO表面的功函數(shù)、ITO薄膜和有機(jī)層的接觸特性等，進(jìn)而影響OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量級(jí)的粒子和所有的有機(jī)、無機(jī)化學(xué)物質(zhì)及污跡、水跡等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的親和性。

目前經(jīng)常用于ITO玻璃表面處理的方法有：化學(xué)方法(酸或堿處理)和物理方法(機(jī)械拋光、熱處理、氧等離子體處理、氧輝光放電及臭氧環(huán)境紫外線處理等)。本文采用的是干冰顆粒噴射清洗技術(shù)。1986年提出將此方法用于表面清潔。之后W.Gerristead等人對(duì)2英寸單晶硅基片進(jìn)行干冰顆粒噴射清洗，清洗前后硅片上的雜質(zhì)顆粒由538000／cm2減少到342／cm2，減少程度達(dá)99.9％；經(jīng)x光電子能譜(XPS)測(cè)量，清洗前后的基片表面上碳?xì)浠_(tái)物的含量降低了25％～30％。此外，干冰顆粒噴射清洗法用于金屬、陶瓷、光學(xué)器件、聚合體表面、CMOS圖像傳感器也取得了很好的清洗效果

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開源節(jié)流促發(fā)展，挖潛增效續(xù)輝煌。能源越來越缺乏，清洗清理設(shè)備行業(yè)的環(huán)保意識(shí)越發(fā)強(qiáng)化。迪史潔干冰雪花清洗設(shè)備在未來的發(fā)展中也大力倡導(dǎo)節(jié)能減排的產(chǎn)品，未來二氧化碳雪花設(shè)備會(huì)在保證原有的質(zhì)量以及使用壽命的基礎(chǔ)上更加的環(huán)保節(jié)能。符合大眾市場(chǎng)的需求又能為地球減能，實(shí)現(xiàn)企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益與社會(huì)效益的結(jié)合。

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