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常州干冰雪花顆粒清洗設備-蘇州二氧化碳清洗設備光纖元件清洗

迪史潔干冰雪花清洗設備近年來花費大筆資金，用于提升公司產品的生產技術，目的在于使公司的二氧化碳雪花設備能夠與用戶的需求地結合。我司在2006-07-05成立，領導人在清洗清理設備從事多年，有著非凡的眼光和豐富的市場經驗。通過與不同的用戶接觸充分地了解顧客所需要的產品應當具備何種性能，以及市場上目前產品所存在的缺陷。結合著顧客反饋的意見以及市場調查的結果我司對二氧化碳雪花設備進行升級，目前二氧化碳雪花設備在全國銷量異常火爆，產品幾度供不應求。

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常州干冰雪花顆粒清洗設備_芯片清洗二氧化碳清洗設備半導體清洗應用

迪史潔技術用于許多行業，如汽車油漆預處理、硬盤驅動器CO2清洗、醫療設備制造CO2清洗、航空航天和電子元件CO2清洗制造。我們的應用干燥。綠色。干凈。迪史潔專注于CO2技術創新，以改善制造工藝，用于廣泛的應用。工藝通常比傳統的替代方法更節能。

這些優點意味著干法工藝被越來越多的用于生產微元件的清潔應用中。一個應用是在使用激光直接結構化技術(激光直接結構化)制造中間體時去除燒蝕殘留物。這個過程使得電路布局能夠直接在復雜的三維載體結構上產生。

CO2雪花清洗的優勢是:擴展的設計機會，相當低的組件尺寸和重量，以及更快的電子組件變更:這導致開發和系列生產成本顯著降低。激光還能產生比傳統工藝更的結構。熱塑性材料中的一種特殊添加劑專用于制造CO2雪花清洗。激光束引發物理化學反應來這種添加劑。然后，在此過程中，它在聚合物基質中分解，并在隨后的還原鍍銅中充當催化劑。在激光結構化過程中，活性燒蝕殘留物(也是金屬化的，因此會引起問題)會留在表面上。這些殘留物用二氧化碳雪花清洗。與傳統的清洗相比，例如使用超聲波或高壓水射流，該過程同時平整粗糙的激光結構。其結果是簡化了干冰雪花清洗的結構和內部連接系統，例如引線鍵合、與未封裝芯片的配合以及倒裝芯片技術。此外，清潔模塊可以很容易地直接集成到激光結構化系統中。更多CO2雪花技術咨詢，產品和服務將陸續發布。

迪史潔干冰雪花清洗設備以“打造行業優異，滿足客戶需求”為使命。公司擁有高素質的員工隊伍，電子設備及其它周邊配件產品的生產水平，產品主銷全國。我司不斷地對產品開拓創新，以技術為核心、視質量為生命、奉用戶為上帝，竭誠為您提供性價比好的產品。

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供應二氧化碳雪花設備_蘇州干冰雪花顆粒清洗設備改善清潔工藝

首先感謝您在百忙之中審閱我，當您打開這個文件時，您將開始對我們產品的能力進行評估，對我們的經歷進行閱讀；希望當您關閉這個信息時，我能夠契合您的要求，解決您的問題

下表列出了干冰雪花精密清洗工藝的重要優勢:

干冰雪花高粒子速度穿透“邊界層”，將清潔傳遞到基底；

干冰雪花噴霧產生了一個相當大的紊流狀態，增加了局部的剪切應力；

干冰雪花一氧化碳的低“硬度”2顆粒產生非研磨性的清潔過程，可用于各種各樣的基底；

干冰雪花開發了小顆粒高能清洗以去除亞微米顆粒；

干冰雪花產生大顆粒高能噴霧以去除較大顆粒；

干冰雪花關鍵過程變量可以通過各種噴嘴、壓力、溫度和流速來輸入；

干冰雪花沖擊表面應力值范圍從1兆帕到80兆帕可以很容易地控制清洗效果；?可以有效地去除薄的有機表面層。這項技術很容易適用于手動污點清潔、自動在線或孤島清潔系統以及工具內清潔應用。

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ITO薄膜具有高透射率、低電阻率的特性，在顯示器件中常用作透明電極。ITO玻璃基板表面的清潔程度，直接影響到液晶顯示器件生產的成品率；對于OLED器件，lTO薄膜表面狀態的影響更大。其清洗方法及表面處理工藝都將影響到ITO薄膜的特性，如化學組成、ITO表面的功函數、ITO薄膜和有機層的接觸特性等，進而影響OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量級的粒子和所有的有機、無機化學物質及污跡、水跡等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的親和性。

目前經常用于ITO玻璃表面處理的方法有：化學方法(酸或堿處理)和物理方法(機械拋光、熱處理、氧等離子體處理、氧輝光放電及臭氧環境紫外線處理等)。本文采用的是干冰顆粒噴射清洗技術。1986年提出將此方法用于表面清潔。之后W.Gerristead等人對2英寸單晶硅基片進行干冰顆粒噴射清洗，清洗前后硅片上的雜質顆粒由538000／cm2減少到342／cm2，減少程度達99.9％；經x光電子能譜(XPS)測量，清洗前后的基片表面上碳氫化臺物的含量降低了25％～30％。此外，干冰顆粒噴射清洗法用于金屬、陶瓷、光學器件、聚合體表面、CMOS圖像傳感器也取得了很好的清洗效果

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干燥和無溶劑的過程沒有殘留物留在表面。部件上幾乎不存在冷凝，盡管它可能發生在薄邊金屬部件上。如有必要，可以使用壓縮空氣加熱器加熱工藝空氣。因此可以完全避免濕氣的積聚。

對材料的影響更多CO2雪花技術咨詢，產品和服務將陸續發布。

CO2噴雪是一種對要清潔的基底溫和的工藝，因為表面不會被堅硬的壓縮顆粒機械損壞。它能夠清潔金屬、合成材料、橡膠、木材和紡織品表面。即使是精密的復合材料、軟金屬和電子元件也可以不受損傷地進行處理

許多不同的清潔應用已被成功證明:金屬光學和玻璃陶瓷工藝聚合物原子力顯微鏡檢查表面分析, 真空系統和表面科學望遠鏡藝術修復火災恢復從金屬、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物硅、磷化銦和GaAs晶片上顆粒和污漬去除

清潔光學器件，即鍍膜透鏡、激光、紅外和紫外光學器件、金剛石車削光學器件

表面分析(俄歇、XPS、SIMS)和原子力顯微鏡前的樣品制備

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CO2雪花清洗系統除雪模式？

CO2雪花清洗系統有兩個一氧化碳2除雪模式，我稱之為高速和低速方法。在高速方法中，小的干冰晶體形成并以高速撞擊表面。在這種模式下，粒子去除范圍很大，從可見到3 - 5納米。高速模式還能夠去除碳氫化合物、有機物、硅殘留物、指紋，甚至水和溶劑斑點。高速模式用于基片、光學器件和許多其他物品的清洗。專色尺寸范圍從1/8到1/4英寸，或3到6毫米

CO2雪花清洗系統在低速模式下，初的高速氣流進入較大直徑的膨脹區，小的干冰氣流以較低的速度變成大的雪花。這種模式常見于?望遠鏡清洗。光學器件也可以應用藝術保護。較大顆粒的去除是主要目標，碳氫化合物或有機物的去除是不可能的。離開膨脹區的液流尺寸為1英寸圓形(25毫米)或2英寸狹縫(50毫米)

CO2雪花清洗系統一般實驗室、生產和潔凈室清潔，CO2雪花清洗系統襯底制備制造許多金屬和陶瓷零件和組件

CO2雪花清洗系統從微電子和混合電路中去除粒子，CO2雪花清洗系統藝術修復、火災恢復、望遠鏡等等。

迪史潔干冰雪清潔技術是基于醫療雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半導體、牙科雪花清洗、原始設備制造、工業微電子雪花清洗、光纖、太陽能雪花清洗、珠寶和服裝行業的精密清洗系統。

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公司二氧化碳雪花設備品種多樣，質量過硬，庫存充足，銷售渠道有保障，擁有可靠為芯片行業服務的團隊。我們本著“公平，公正”的交易原則，為廣大需求客戶提供二氧化碳雪花設備，銷售方式是;廠家。我司在實現企業與社會共發展的目標進程中，每一個人都忠誠自己的團隊，勇挑重擔，發揮潛能，用心做事。的產品都是經過檢測，有質量保障的，請您放心購買！

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