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蘭州化學清洗

在半導體器件工藝實驗中．蘭州化學清洗是指清除吸附在半導體、金屬材料以及用具表面上的各種有害雜質或油污。清洗方法是利用各種化學試劑和有機熔劑與吸附在被清洗物體表面上的雜質及油污發生化學反應和溶解作用，或伴以超聲．加熱、抽真空等物理措施，使雜質從被清洗物體的表面脫附（或稱解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，從而獲得潔凈的物體表面。

蘭州化學清洗的重要性

工藝實驗中每個實驗都有蘭州化學清洗的問題，蘭州化學清洗的好壞對實驗結果有嚴重的影響，處理不當，則得不到實驗結果或實驗結果不好。因此弄清楚化學清洗的作用和原理，對做好工藝實驗有著重要的意義。大家知道，半導體的重要特性之一是對雜質十分敏感，只要有百萬分之一，甚至微量的雜質，就會對半導體的物理性質有所影響，我們就是利用這一特性，通過摻雜的方法．制作各種功能的半導體器件。但也由于這一特性，給半導體器件工藝實驗帶來麻煩和困難．所使用的化學試劑、生產工具，清洗用的水等都可能成為有害雜質的沾污源．即使是清潔的半導體晶片，較長時間暴露于空氣之中．也會引入明顯的雜質沾污?；瘜W清洗就是消除有害雜質沾污，保持硅片表面清潔。

蘭州化學清洗的范圍

蘭州化學清洗主要包括三個方面的清洗，一是硅片表面的清洗；二是使用的金屬材料（如作蒸發電極用的鎢絲，作蒸發墊板用的鉬片、作蒸發源用的鋁合金，制鉻板用的鉻等）的清洗；三是所用工具、器皿（如金屬鑷子．石英管、玻璃容器、石墨模具、塑料和橡膠制品等）的清洗。

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