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鈦金爐，性價比高的臥式蒸發(fā)鍍膜設備供應信息， 經過幾年的快速發(fā)展，以臥式蒸發(fā)鍍膜設備的恒譽真空如今已經躋身機械和行業(yè)設備專用配件行業(yè)的前沿，臥式蒸發(fā)鍍膜設備以可靠的品質贏得了廣大需求群體的青睞，同時也獲得不錯的口碑。如有需要，歡迎致電聯系了解詳情。

恒譽真空建立高起點、高目標、高質量、率、有效益的“五高”標準，鍛造出質量良好的產品，獲得廣闊的銷售市場。供應的臥式蒸發(fā)鍍膜設備主要用于各種塑料、玻璃制器（玩具、服飾、汽車、手機等行業(yè)）的表面金屬化處理，在廣東、肇慶區(qū)域范圍內受到廣大需求群體的青睞。公司憑借良好的信譽，雄厚的實力，好的產品，低廉的價格服務于廣大用戶。

客戶下單后希望您能根據以下情況操作，臥式蒸發(fā)鍍膜設備是銷售于需求群體的設備，如果是由于您本身操作不當損壞，該情況不在我司售后服務范圍里面，損壞產件如需要維修你也可以把產品寄到廣東肇慶進行有償維修。歡迎致電。

鈦金爐，

平衡態(tài)磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

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