微電子清潔二氧化碳清洗設備半導體清洗應用-微電子清潔雪花清洗設備光纖元件清洗

。 我們堅持高質量服務，立志高技術創新，追求高速度發展。一直秉承“為客戶服務并且創造價值”的宗旨，堅持“創新務實，客戶至上”的工作準則，為芯片行業提供優異產品和系統解決方案。目前，迪史潔干冰雪花清洗設備主營的二氧化碳雪花設備在全國備受客戶的熱捧。本公司秉著誠信經營的理念對產品進行生產銷售，強化過程管理，建設品質良好工程。

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我們的使命:將創新的CO2雪花技術應用于復雜的精密清洗、提取和冷卻應用，以環保的方式提高生產率、質量和安全性。

迪史潔干冰雪花清洗是一種的顆粒去除技術，廣泛應用于光學、硬盤、表面處理、電子等行業。這種有效清潔技術的關鍵特征包括能夠去除大量顆粒物質而不凝結、不磨損、不殘留、不接觸。

少量液相迪史潔干冰雪花清洗被注射并與加熱和壓力調節的惰性推進氣體混合，以形成具有可控噴霧組成和清潔能量的均勻清潔噴霧混合物。根據混合噴嘴組件的幾何形狀、噴霧混合比、推進劑壓力和溫度，輸送到基底的清潔能量是完全可調的。固體迪史潔干冰雪花清洗顆粒以高速撞擊基底，在表面污染物上產生高剪切應力。這一作用產生了化學活性固相，提供了顆粒物質、無機殘留物和有機薄膜污染物的去除。在與污染物和表面接觸后，固體一氧化碳2顆粒升華，沒有留下清潔劑的痕跡。殘留物通過一個集成的通風系統從清潔區清除。

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迪史潔干冰雪技術 凈化系統的心臟是由超音速雙環噴嘴制造的專利凈化頭。液態二氧化碳被引導通過噴嘴，并在出口處擴展成雪和氣體的混合物。無油壓縮空氣是酷到核心噴即噴即噴，加速不燃CO2雪晶體是超音速的。這就是雪花清理過程如此有效的原因:當“輕松聚焦射流沖擊表面以進行清理”時，雪花水晶會流動并升華。升華脈沖的原因在表面上的部分接觸禮物，干燥的粒子，芯片清洗，灰塵清潔或聚粘清潔，以要求脫粘和攜帶遠離。在它的液態狀態下，CO2雪花清洗二氧化碳作為溶劑，可去除鉛的有機污染物CO2雪花清洗，例如石油、油脂、蠟、加工介質、防腐涂層或石墨CO2雪花清洗。

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迪史潔干冰雪技術無論是用于塑料噴漆、精密機電產品制造、電子或半導體或光學行業，為了在涂層、噴漆、連接或其他過程中獲得高質量的結果，表面都需要沒有顆粒、油和油脂。

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信譽好的二氧化碳雪花設備_常州干冰雪花顆粒清洗設備半導體清洗應用

迪史潔干冰雪清潔技術是基于醫療雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半導體、牙科雪花清洗、原始設備制造、工業微電子雪花清洗、光纖、太陽能雪花清洗、珠寶和服裝行業的精密清洗系統。

隨著技術的進步，精密儀器的性能要求和復雜性也在增加。DSJet一直走在這條曲線的前列，不斷提供進的干冰或雪清潔產品，這些產品對環境友好，不使用去離子水、化學物質和廢物。

干冰雪花清洗優點:清潔，干燥的過程，控制的污點清潔，可以改變清潔強度，環保。

干冰雪花清洗表面處理粘合劑粘合工藝的表面處理提供了涂層和油漆之間的牢固粘合。噴嘴噴灑雪來清潔表面，不會留下任何污染物，牢固的結合。

干冰雪花清洗優點:不需要后期溶劑清洗或擦拭。在大氣壓下進行表面功能化，周期短，并證明能有效提高粘合強度。

干冰雪花清洗自動清洗自動化清洗單元工藝目前正在以下行業中實施:硬盤驅動器(HDD)、液晶顯示器(LCD)、通信、醫療、軍事和航空航天。

干冰雪花清洗優點:全自動、在線、快速、免手動、占地面積小、可重復清潔、節省人力

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供應二氧化碳雪花設備_蘇州干冰雪花顆粒清洗設備改善清潔工藝

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下表列出了干冰雪花精密清洗工藝的重要優勢:

干冰雪花高粒子速度穿透“邊界層”，將清潔傳遞到基底；

干冰雪花噴霧產生了一個相當大的紊流狀態，增加了局部的剪切應力；

干冰雪花一氧化碳的低“硬度”2顆粒產生非研磨性的清潔過程，可用于各種各樣的基底；

干冰雪花開發了小顆粒高能清洗以去除亞微米顆粒；

干冰雪花產生大顆粒高能噴霧以去除較大顆粒；

干冰雪花關鍵過程變量可以通過各種噴嘴、壓力、溫度和流速來輸入；

干冰雪花沖擊表面應力值范圍從1兆帕到80兆帕可以很容易地控制清洗效果；?可以有效地去除薄的有機表面層。這項技術很容易適用于手動污點清潔、自動在線或孤島清潔系統以及工具內清潔應用。

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ITO薄膜具有高透射率、低電阻率的特性，在顯示器件中常用作透明電極。ITO玻璃基板表面的清潔程度，直接影響到液晶顯示器件生產的成品率；對于OLED器件，lTO薄膜表面狀態的影響更大。其清洗方法及表面處理工藝都將影響到ITO薄膜的特性，如化學組成、ITO表面的功函數、ITO薄膜和有機層的接觸特性等，進而影響OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量級的粒子和所有的有機、無機化學物質及污跡、水跡等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的親和性。

目前經常用于ITO玻璃表面處理的方法有：化學方法(酸或堿處理)和物理方法(機械拋光、熱處理、氧等離子體處理、氧輝光放電及臭氧環境紫外線處理等)。本文采用的是干冰顆粒噴射清洗技術。1986年提出將此方法用于表面清潔。之后W.Gerristead等人對2英寸單晶硅基片進行干冰顆粒噴射清洗，清洗前后硅片上的雜質顆粒由538000／cm2減少到342／cm2，減少程度達99.9％；經x光電子能譜(XPS)測量，清洗前后的基片表面上碳氫化臺物的含量降低了25％～30％。此外，干冰顆粒噴射清洗法用于金屬、陶瓷、光學器件、聚合體表面、CMOS圖像傳感器也取得了很好的清洗效果

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公司針對不同行業和運用要求推出不同類型的產品，主要二氧化碳雪花設備為主，以芯片行業為主要銷售對象。我司銷售渠道廣泛，產品采用;廠家等方式穩定銷售于全國，業績穩步增長。倡導科學發展觀，節約成本、利潤優化、好服務、與時俱進是我們工作的準則。

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