X光光電子能譜儀 (XPS/ESCA)在半導體、LED、印刷電路板及面板產業中，表面元素分析在產品開發與產線監控上，扮演重要角色。在各項表面分析設備中，XPS (X光光電子能譜儀, 亦稱 ESCA)廣為業界應用，主要原因來自于，XPS能同時得到材料表面元素分布及化學鍵結等信息，且不受樣品導電性的限制。 XPS分析原理 XPS原理簡單說就是光電效應，藉由X光光電子能譜分析材料表面各種元素之化學狀態。當X光由材料表面入射進入內部時，X光會將原子內之核心電子或鍵結電子激發至激態，靠近材料表面之高能態電子將有機會逃離材料表面，這些逃離材料表面之電子即稱為X光光電子。分析被激發出的光電子能量可得到組成元素種類，更可以得知其化學訊息，判斷化學態。 iST服務范疇 iST宜特科技特高階XPS – Quantera II掃描式X光光電子能譜儀，相較傳統XPS特小僅能達到50微米的微區分析能力，宜特Quantera II特小可達7.5微米，能針對樣品表面更細微的結構進行分析，滿足業界所需。此外，傳統XPS是用光學方式進行定位，在微區選擇分析上往往會因為放大倍率的不足而影響微區選擇的準確性，造成其分析結果無法判讀(分析結果非正確來自于目標微區)。而Quantera II在樣品定位上除了傳統的光學影像外，還可透過聚焦X-ray的方式來得到更高倍率的SXI二次電子影像 (Scanning X-ray Induced secondary electron image, 成像原理與SEM雷同)，大大提高微區選擇分析的準確性，分析能力大為躍進。機臺規格： 廠牌及型號：PHI QuanteraII X射線束特小直徑：7.5um 能量分辨率：0.48 eV (Ag3d5/2) 試片定位：SPS光學及SXI成像 試片大?。?